白谷正治, 九州大学 [著][白谷正治]2004-2006<Y151-H16360020>
国立国会図書館
- 件名銅配線 / ルテニウム / プラズマCVD / 異方性製膜 / イオンアシスト製膜 / スパッタリング / ナノ構造 / LSI
大山, 昌憲, 東京工業高等専門学校2000-2002<Y151-H12555190>
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- 件名低温結晶成長 化合物半導体薄膜 ヘテロエピタキシ- ドライプロセス イオンアシスト 光学材料 電子ビ-ム蒸着 スパツタリング
後藤, 誠一, 大阪大学1999-2000<Y151-H11558053>
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- 件名表面処理技術 プロセスプラズマ 低摩擦膜 インバーター ダイヤモンド薄膜 トライボロジー パルスグロー イオンアシスト
大山, 昌憲, 東京工業高等専門学校1997-1999<Y151-H09555113>
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- 件名低温成長 化合物半導体薄膜 ヘテロエピタキシー ドライプロセス イオンアシスト 光学材料 電子ビーム蒸着 スパツタリング
京兼, 純, 奈良工業高等専門学校1994-1995<Y151-H06650378>
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- 件名イオンアシスト法 有機物質 蒸着薄膜 金属キノリノール錯体 トリフエニルジ...
上條, 栄治, 龍谷大学1990-1991<Y151-H02453071>
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- 件名イオンビームスパツタ成膜 イオンアシスト セラミツクス TiN薄膜 TiO2薄膜 AIN薄膜 結晶配...