吉成, 正雄, 東京歯科大学2000-2002<Y151-H12671903>
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- 件名インプラント チタン 細菌付着 表面改質 ドライプロセス 抗菌性 唾液タンパク質
大森裕, 大阪大学 [著][大森裕]2004-2006<Y151-H16360173>
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- 件名有機受光素子 / 有機トランジスター / 有機EL / ドライプロセス / ウェットプロセス / アモルファス材料 / 発光過程 ...
窪寺昌一, 宮崎大学 [著][窪寺昌一]2001-2003<Y151-H13555202>
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- 件名真空紫外光 / 光量子プロセス / 光化学反応 / 希ガスエキシマ / エキシマランプ / 表面反応 / ドライプロセス
榊原建樹, 豊橋技術科学大学 [著][榊原建樹]2003-2005<Y151-H15360189>
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- 件名Cu配線 / ドライプロセス / 真空アーク蒸着 / 磁気輸送フィルタードアーク / T...
新田, 勇, 新潟大学1998-1999<Y151-H10555050>
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- 件名機械要素 締結要素 シユリンクフイツタ ドライプロセス 超精密接合 スポツト径 レーザー スキヤナー
大山, 昌憲, 東京工業高等専門学校2000-2002<Y151-H12555190>
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- 件名低温結晶成長 化合物半導体薄膜 ヘテロエピタキシ- ドライプロセス イオンアシスト 光学材料 電子ビ-ム蒸着 スパツタリング
大山, 昌憲, 東京工業高等専門学校1997-1999<Y151-H09555113>
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- 件名低温成長 化合物半導体薄膜 ヘテロエピタキシー ドライプロセス イオンアシスト 光学材料 電子ビーム蒸着 スパツタリング
大見, 忠弘, 東北大学1992-1993<Y151-H04505002>
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- 件名ドライプロセス 低温プロセス 超LSI 半導体製造装置 イオン注入 静電気...
伊達, 広行, 北海道大学1992-1993<Y151-H04555018>
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- 件名プラズマCVD シリコン酸化膜 低周波プラズマ TEOS 薄膜生成 低温プロセス 集積回路ドライプロセス 非平衡プラズマ
下妻, 光夫, 北海道大学1990-1992<Y151-H02555056>
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- 件名低周波プラズマCVD法 CH4+H2混合ガス ドライプロセス 薄膜堆積 アモルフアスカーボン膜 ダイヤモンド薄膜 半導体...