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次世代積層型システムLSI用貫通電極の絶縁膜作製技術の開発
次世代積層型システムLSI用貫通電極の絶縁膜作製技術の開発
紙
図書
横谷篤至, 宮崎大学 [著]
[横谷篤至]
2005-2006
<Y151-H17560288>
国立国会図書館
件名
積層型システムLSI / 絶縁膜 / 貫通電極 / 真空紫外光 / エキシマランプ /
光CVD
真空紫外
光CVD
による次世代積層型システムLSI作製用要素プロセス技術の開発
真空紫外光CVDによる次世代積層型システムLSI作製用要素プロセス技術の開発
紙
図書
亀山晃弘, 黒澤宏, 宮崎大学 [著]
[亀山晃弘]
2003-2005
<Y151-H15360194>
国立国会図書館
件名
真空紫外光 / エキシマランプ /
光CVD
/ 半導体絶縁膜 / 積層型システムLSI / Syste...
エキシマーレーザーCVDによる高性能イオン導電性超格子薄膜の創製
エキシマーレーザーCVDによる高性能イオン導電性超格子薄膜の創製
紙
図書
嵐, 治夫, 東北大学
1991-1992
<Y151-H03555163>
国立国会図書館
件名
光CVD
エキシマーレーザー イオン導電体 薄膜
光CVD
法によるAl2O3絶縁膜の低温作製
光CVD法によるAl2O3絶縁膜の低温作製
紙
図書
更家, 淳司, 京都工芸繊維大学
1988-1989
<Y151-S63550235>
国立国会図書館
件名
アルミナ膜
光CVD
法 堆積速度 誘電損失
レーザー誘起表面反応による機能性半導体超薄膜の製作と応用
レーザー誘起表面反応による機能性半導体超薄膜の製作と応用
紙
図書
橋本, 和仁, 東京大学
1992-1993
<Y151-H04555192>
国立国会図書館
件名
光CVD
II-VI族半導体超薄膜 固体表面反応 レーザー光 超微細...
希土類金属間化合物系高保磁力磁性粉体の合成と応用
希土類金属間化合物系高保磁力磁性粉体の合成と応用
紙
図書
町田, 憲一, 大阪大学
1995-1996
<Y151-H07555271>
国立国会図書館
件名
希土類金属間化合物 侵入型金属窒化物 永久磁石材料 ボンド磁石 保磁力 残留磁化 最大エネルギー積
光CVD
光励起過程を利用したリン化インジウム表面物性の制御と電子素子への応用
光励起過程を利用したリン化インジウム表面物性の制御と電子素子への応用
紙
図書
國岡, 昭夫, 青山学院大学
1988-1989
<Y151-S63550239>
国立国会図書館
件名
光CVD
法 窒化シリコン リン化インジウム MIS構造 界面準位密度
光・プラズマ2重励起による半導体SiCの低温エピタキシヤル成長
光・プラズマ2重励起による半導体SiCの低温エピタキシヤル成長
紙
図書
西野, 茂弘, 京都工芸繊維大学
1989-1990
<Y151-H01550016>
国立国会図書館
件名
プラズマCVD
光CVD
減圧CVD 立方晶SiC 3C SiC ヘテロエピタキシー...
時間分割光電子分光法とレーザー分光法による表面光化学反応の素過程
時間分割光電子分光法とレーザー分光法による表面光化学反応の素過程
紙
図書
川崎, 昌博, 北海道大学
1989-1992
<Y151-H01430003>
国立国会図書館
件名
光解離 光電子分光 半導体 トリメチルインジウム トリメチルガリウム レーザー
光CVD
選択的成長
光CVD
法によるSiの低温エピタキシャル成長法の開発
光CVD法によるSiの低温エピタキシャル成長法の開発
紙
図書
小長井誠, 東京工業大学
1987-1988
<Y151-S62850053>
国立国会図書館
件名
光CVD
法 低温エピタキシヤル成長 歪超格子 Si SiGe 超高濃...
光CVD
法により調整した固定化触媒上の光物理過程と光触媒活性の研究
光CVD法により調整した固定化触媒上の光物理過程と光触媒活性の研究
紙
図書
藤井, 恒男, 信州大学
1990-1991
<Y151-H02805099>
国立国会図書館
件名
ゾルーゲル法 金属複合酸化物 光触媒 光物理過程 固定化触媒 螢光スペクトル
光CVD
法 光プローブ
シンクロトロン放射光励起表面化学反応による単結晶薄膜の気相成長
シンクロトロン放射光励起表面化学反応による単結晶薄膜の気相成長
紙
図書
宮本信雄, 東北大学
1988-1990
<Y151-S63470105>
国立国会図書館
件名
結晶成長 表面光化学反応 シンクロトロン放射光 光刺激脱離 光電子分光
光CVD
シリコン 砒化ガリウム
無機材料の新しい合成プロセスと機能評価
無機材料の新しい合成プロセスと機能評価
紙
図書
金丸, 文一, 大阪大学
1986-1987
<Y151-S61303009>
国立国会図書館
件名
CVD PVD
光CVD
プラズマCVD 人工格子 セラミツク薄膜 超高圧合成法 ゾ...
真空紫外
光CVD
による次世代積層型システムLSI作製用要素プロセス技術の開発
真空紫外光CVDによる次世代積層型システムLSI作製用要素プロセス技術の開発
デジタル
文書・図像類
亀山, 晃弘
全国の図書館
件名
...SI, フェムト秒レーザー,
光CVD
, 半導体絶縁膜, 真空紫外, 真空紫外光, 真空紫外
光CVD
, 積層型システムLSI
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