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システムオンプラスチック応用に向けた非晶質InGaZnO抵抗変化メモリに関する研究

Digital博士論文障害者向け資料あり

門, 圭佑奈良先端科学技術大学院大学2017-03-24

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Subject Headingシステムオンプラスチック非晶質酸化物抵抗変化メモリ低温プロセス InGaZnO

固相拡散によるシリコンウエハ内への浅いpn接合の低温における形成方法の確立

Paper図書

石川, 豊, 日本工業大学1996-1998<Y151-H08650411>

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Subject Heading固相拡散シリコン不純物低温プロセス

白金の触媒作用を用いるMOSデバイスゲ-ト酸化膜の絶縁耐圧性の向上

Paper図書

小林, 光, 大阪大学2000-2002<Y151-H12450127>

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Subject Heading白金処理リ-ク電流 MOS シリコン SiO_2 化学酸化低温プロセス Si/SiO_2界面

マイクロ波プラズマ高品質ゲート絶縁膜を用いた超高耐圧SiC電力用トランジスタ

Paper図書

寺本章伸, 東北大学 [著][寺本章伸]2003-2004<Y151-H15360156>

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Subject Headingマイクロ波励起プラズマ / シリコンカーバイト (SiC) / 絶縁膜 / MOS / 残留炭素 / 低温プロセス

ナノコンポジット基板を利用したナノデバイス作製基礎技術

Paper図書

越崎直人, 産業技術総合研究所 [著][越崎直人]2002-2003<Y151-H14350362>

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Subject Headingナノコンポジット / ナノデバイス / 基板 / カーボンナノチューブ / マイクロプラズマ / 低温プロセス / 触媒 / 超臨界流体プラズマ

強誘電体薄膜の物性制御と次世代メモリデバイスへの応用

Paper図書

奥山雅則, 大阪大学 [著][奥山雅則]2000-2003<Y151-TR748-002>

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Subject Headingマルテンサイト型合金 / 低温プロセス / リラクサ強誘電体 / ドメイン構造観察 / ケミカルプ...

超LSIの完全ドライ・トータル低温製造ラインシステムの試作研究

Paper図書

大見, 忠弘, 東北大学1992-1993<Y151-H04505002>

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Subject Headingドライプロセス低温プロセス超LSI 半導体製造装置イオン注入静電気障害 MOSF...

新規な光化学反応による酸化スズ透明導電膜の作製と電極パターン形成

Paper図書

澤田, 豊, 東京工芸大学1991-1992<Y151-H03650264>

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Subject Heading酸化スズ光化学反応低温プロセス光酸化真空蒸着電極パターン形成ヨウ化スズ透明導電膜

低周波プラズマCVD(TEOS+O2)によるシリコン酸化膜の低温形成プロセス開発

Paper図書

伊達, 広行, 北海道大学1992-1993<Y151-H04555018>

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Subject HeadingプラズマCVD シリコン酸化膜低周波プラズマ TEOS 薄膜生成低温プロセス集積回路ドライプロセス非平衡プラズマ

種結晶層を用いた低温結晶化シリコン薄膜の粒径制御

Digital文書・図像類

堀田, 將2012-05-07科学研究費補助金研究成果報告書p.1-5

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Subject Heading低温結晶化 Si薄膜 YSZ薄膜薄膜トランジスタ固相成長低温プロセス多結晶Si

二周波数励起低運動エネルギイオン照射プロセス成膜装置の開発

Paper図書

大見, 忠弘, 東北大学1988-1989<Y151-S63850058>

National Diet Library

Subject Headingスパツタリング低温プロセスシリコンエピタキシヤル成長低エネルギイオン照射 Cu配線...

低周波50HzプラズマCVD法によるカーボン薄膜の低温形成プロセスの開発

Paper図書

下妻, 光夫, 北海道大学1990-1992<Y151-H02555056>

National Diet Library

Subject Heading低周波プラズマCVD法 CH4+H2混合ガスドライプロセス薄膜堆積アモルフアスカーボン膜ダイヤモンド薄膜半導体低温プロセス RFプラズマCVD法

システムオンフィルムに向けたウェットプロセスによる新ｈｉｇｈ-ｋ薄膜トランジスタ : 平成24年度実績報告書

Digital文書・図像類

呂, 莉奈良先端科学技術大学院大学2013

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Subject Heading薄膜トランジスタウェットプロセス低温プロセス低駆動電圧高移動度 InGaZnO high-k SrT...

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