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検索結果 9 件

次世代Cu/low-k材料間の極薄バリヤを用いた安定な界面形成のための基礎的検討

次世代Cu/low-k材料間の極薄バリヤを用いた安定な界面形成のための基礎的検討
紙図書
武山真弓, 北見工業大学 [著][武山真弓]2005-2007<Y151-H17560018>
国立国会図書館
  • 件名Cu配線 / 極薄バリヤ / ラジカル窒化 / intermixin...

半導体Cu配線形成に用いるめっき添加剤のメカニズム

半導体Cu配線形成に用いるめっき添加剤のメカニズム
紙図書
近藤, 和夫, 岡山大学2001-2002<Y151-H13650781>
国立国会図書館
  • 件名Cu配線 Cuめっき 添加剤 抑制作用 促進作用 メカニズム

ULSIデバイス用Cu機能性配線材料における特異なボイド形成機構の解明

ULSIデバイス用Cu機能性配線材料における特異なボイド形成機構の解明
紙図書
守山, 実希, 京都大学2001-2002<Y151-H13650759>
国立国会図書館
  • 件名Si半導体デバイス Cu配線材 マイクロボイド 配線信頼性

20nm技術LSI用Cu配線材料の研究

20nm技術LSI用Cu配線材料の研究
紙図書
大貫仁, 茨城大学 [著][大貫仁]2005-2007<Y151-H17206071>
国立国会図書館
  • 件名TEG / Cu配線形成 / 硫酸銅純度 / 平均結晶粒径 / 標準偏差 / 分...

クリーン金属アークプラズマを用いた高速ドライ配線技術の開発

クリーン金属アークプラズマを用いた高速ドライ配線技術の開発
紙図書
榊原建樹, 豊橋技術科学大学 [著][榊原建樹]2003-2005<Y151-H15360189>
国立国会図書館
  • 件名Cu配線 / ドライプロセス / 真空アーク蒸着 / 磁気輸送フィル...

ULSI極微細・高アスペクト比孔の低損傷形成研究

ULSI極微細・高アスペクト比孔の低損傷形成研究
紙図書
堀池, 靖浩, 東京大学1999-2001<Y151-H11555179>
国立国会図書館
  • 件名コンタクト孔底部損傷 フロロカーボン ドライエツチング 壁との相互作用 ドライ洗浄 超高圧透過型電子顕微鏡 ビイア孔 Cu配線

二周波数励起低運動エネルギイオン照射プロセス成膜装置の開発

二周波数励起低運動エネルギイオン照射プロセス成膜装置の開発
紙図書
大見, 忠弘, 東北大学1988-1989<Y151-S63850058>
国立国会図書館
  • 件名スパツタリング 低温プロセス シリコンエピタキシヤル成長 低エネルギイオン照射 Cu配線 Al配線 超高密度LSI

半導体内部に金属領域を有する超高速集積回路の研究

半導体内部に金属領域を有する超高速集積回路の研究
紙図書
大見, 忠弘, 東北大学1990-1991<Y151-H02402031>
国立国会図書館
  • 件名メタルゲート自己整合MOSFET イオン注入層低温アニール Cu配線技術 超高速配線 エレクトロマイグレーシヨン 低エネルギイオ...

陽電子消滅法によるLSI配線材料中の空孔型欠陥に関する研究

陽電子消滅法によるLSI配線材料中の空孔型欠陥に関する研究
デジタル博士論文
藪内, 敦
インターネットで読める全国の図書館
  • 件名陽電子 格子欠陥 空孔 LSI Cu配線 リフロー

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