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ヘテロエピタキシヤル結晶SiO2/Si(001)の原子レベルのトンネル障壁

ヘテロエピタキシヤル結晶SiO2/Si(001)の原子レベルのトンネル障壁
紙図書
名取, 晃子, 電気通信大学2001-2002<Y151-H13640322>
国立国会図書館
  • 件名Si酸化膜 トンネル障壁

省電力LSI用高誘電率ゲート絶縁膜の自己整合プロセス開発

省電力LSI用高誘電率ゲート絶縁膜の自己整合プロセス開発
紙図書
中島寛, 九州大学 [著][中島寛]2004-2005<Y151-H16360156>
国立国会図書館
  • 件名シリコン / 高誘電率絶縁膜 / 電子サイクロトロン共鳴プラズマ / 酸化膜 / 窒化膜 / 省電力LSI / Hf酸化膜

極薄シリコン酸化膜スペーサを用いたナノギャップ構造トンネル分光デバイスの研究

極薄シリコン酸化膜スペーサを用いたナノギャップ構造トンネル分光デバイスの研究
紙図書
森田瑞穂, 大阪大学 [著][森田瑞穂]2002-2005<Y151-H14350166>
国立国会図書館
  • 件名ナノギャップ / 電子応答 / シリコン酸化膜

SiO2/SiC界面における窒素局所構造に関する研究

SiO2/SiC界面における窒素局所構造に関する研究
デジタル博士論文障害者向け資料あり
森, 大輔奈良先端科学技術大学院大学2018-03-23
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  • 件名界面 酸化膜 窒素 SiC

反応性亜臨界,超臨界炭酸ガスとオゾンによる低吸着性,低ガス放出性酸化膜の製作

反応性亜臨界,超臨界炭酸ガスとオゾンによる低吸着性,低ガス放出性酸化膜の製作
紙図書
百瀬, 丘, 宮城工業高等専門学校1997-1999<Y151-H09555220>
国立国会図書館
  • 件名オゾン処理 超臨界炭酸ガス 低ガス放出性酸化膜 低吸着性酸化膜

酸素負イオンプラズマによるシリコンの低温高速酸化に関する研究

酸素負イオンプラズマによるシリコンの低温高速酸化に関する研究
紙図書
進藤, 春雄, 東海大学1999-2000<Y151-H11680490>
国立国会図書館
  • 件名シリコン酸化膜 酸素負イオン酸化 素子分離用酸化膜 高速シリコン酸化 低損傷酸化膜 低温シリコン酸化 サブオキサイド プラズマプロセス

AlGaN/GaN ISFETを用いた pH センサに関する研究

AlGaN/GaN ISFETを用いた pH センサに関する研究
デジタル博士論文障害者向け資料あり
王, 磊2017-03-23
国立国会図書館
  • 件名AlGaN/GaN ISFET pHセンサ Al2O3酸化膜 Ga2O3酸化膜

半導体ウエハのin-situ温度計測システムの研究

半導体ウエハのin-situ温度計測システムの研究
紙図書
井内徹, 東洋大学 [著][井内徹]2005-2006<Y151-H17560377>
国立国会図書館
  • 件名放射測温 / 半導体 / 温度計測 / 放射率 / 偏光 / 酸化膜 / 薄膜 / 熱接触抵抗

フイ-ルド酸化膜上での銅配線に対する極薄・低抵抗バリヤの基礎的検討

フイ-ルド酸化膜上での銅配線に対する極薄・低抵抗バリヤの基礎的検討
紙図書
野矢, 厚, 北見工業大学2000-2002<Y151-H12650299>
国立国会図書館
  • 件名集積回路 配線 フイ-ルド酸化膜 Cu SiO_2 VN バリヤ

酸素負イオンの挙動に着目したスパッタ酸化膜のエピタキシャル成長に関する研究

酸素負イオンの挙動に着目したスパッタ酸化膜のエピタキシャル成長に関する研究
紙図書
沖村邦雄, 東海大学 [著][沖村邦雄]2004-2005<Y151-H16540454>
国立国会図書館
  • 件名ICP支援スパッタ装置 / ルチル型Ti酸化膜 / アナターゼ型Ti酸化膜 / エピタキシャル成長 / 高密度プラズマ生成 / アニー...

レ-ザ-デトネ-シヨン誘起ブロ-ドアトムビ-ムによる低損傷低温極表面改質法の開発

レ-ザ-デトネ-シヨン誘起ブロ-ドアトムビ-ムによる低損傷低温極表面改質法の開発
紙図書
大前, 伸夫, 神戸大学2000-2002<Y151-H12555200>
国立国会図書館
  • 件名原子状酸素 シリコン 表面改質 シリコン酸化膜 原子ビ-ム

次世代超高密度デバイス用極薄絶縁膜の開発

次世代超高密度デバイス用極薄絶縁膜の開発
紙図書
尾嶋, 正治, 東京大学1998-2000<Y151-H10555100>
国立国会図書館
  • 件名シリコン 酸化膜 放射光 光電子分光 酸窒化膜 ULSI

Si半導体ウエハ-の温度計測法の研究

Si半導体ウエハ-の温度計測法の研究
紙図書
井内, 徹, 東洋大学2001-2002<Y151-H13650468>
国立国会図書館
  • 件名シリコン 半導体 ウエハ- 放射測温 放射率 偏光 酸化膜 薄膜

電圧によるスピン分極制御と磁気光学素子への適用

電圧によるスピン分極制御と磁気光学素子への適用
紙図書
土井正晶, 東北大学 [著][土井正晶]2004-2006<Y151-H16360144>
国立国会図書館
  • 件名スピン分極率 / メスバウァー効果 / 電圧制御 / 極薄酸化膜 / エピタキシャル / スピン注入

電気的解析手法と構造的解析手法の融合によるシリコン酸化膜の破壊機構に関する研究

電気的解析手法と構造的解析手法の融合によるシリコン酸化膜の破壊機構に関する研究
紙図書
舛岡, 富士雄, 東北大学1998-1999<Y151-H10305023>
国立国会図書館
  • 件名シリコン酸化膜 フラツシユメモリ 構造解析

フオトルミネセンス法によるシリカ薄膜中の欠陥の検出ならびに構造解析

フオトルミネセンス法によるシリカ薄膜中の欠陥の検出ならびに構造解析
紙図書
大木, 義路, 早稲田大学1997-1999<Y151-H09450132>
国立国会図書館
  • 件名シリカ シリコン熱酸化膜 フオトルミネセンス 点欠陥 シリコン埋め込み酸化膜 フツ素添加SiO2 シリコン窒化膜

4族半導体の極薄酸化膜の界面評価に関する研究

4族半導体の極薄酸化膜の界面評価に関する研究
紙図書
吉田, 貞史, 埼玉大学2001-2002<Y151-H13450120>
国立国会図書館
  • 件名IV族半導体 炭化珪素 (SiC) 酸化膜 界面 分光エリプソメトリ X線光電子分光

SOIのRTOならびに低温熱酸化における界面電荷の制御

SOIのRTOならびに低温熱酸化における界面電荷の制御
紙図書
梅野, 正隆, 大阪大学1995-1996<Y151-H07455025>
国立国会図書館
  • 件名シリコン 熱酸化 酸化膜 NF3 RTO SOI

高誘電体/シリコン界面形成の原子スケール制御による高品質界面の実現

高誘電体/シリコン界面形成の原子スケール制御による高品質界面の実現
紙図書
野平博司, 武蔵工業大学 [著][野平博司]2004-2005<Y151-H16560026>
国立国会図書館
  • 件名高誘電率材料 / 角度分解X線光電子分光法 / 絶縁膜/Si界面 / 希土類酸化膜 / 深さ方向元素分布

ナノメータLSI用極薄SOI基板の結晶評価と不純物拡散モデリングの研究

ナノメータLSI用極薄SOI基板の結晶評価と不純物拡散モデリングの研究
紙図書
荒井英輔, 名古屋工業大学 [著][荒井英輔]2002-2004<Y151-H14550323>
国立国会図書館
  • 件名シリコンLSI / 極薄SOI / 埋込酸化膜 / 不純物拡散 / キャリア分布 / new donor ...
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