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金属・半導体材料表面薄膜の化学的評価法の開発と表面分析用薄膜標準物質作製への展開

金属・半導体材料表面薄膜の化学的評価法の開発と表面分析用薄膜標準物質作製への展開
紙図書
田中龍彦, 東京理科大学 [著][田中龍彦]2005-2007<Y151-H17550086>
国立国会図書館
  • 件名解析・評価 / 亜鉛めっき鋼板 / シリコンウエハ / 薄膜標準物質 / 化学分析

積層大口径ウエハ均一薄膜形成のための放射熱物性計測とガス流動解析に関する研究

積層大口径ウエハ均一薄膜形成のための放射熱物性計測とガス流動解析に関する研究
紙図書
菊田和重, 北海道大学 [著][菊田和重]2003-2004<Y151-H15560164>
国立国会図書館
  • 件名CVD / シリコンウエハ / ガス流動 / 可視化 / 放射熱物性 / 薄膜 / L...

次世代400mmシリコンウエハ平坦度の自律的超精密測定システムの開発

次世代400mmシリコンウエハ平坦度の自律的超精密測定システムの開発
紙図書
高, 偉 (Gao, Wei) , 東北大学2000-2002<Y151-H12555032>
国立国会図書館
  • 件名測定 シリコンウエハ 平坦度 角度センサ 校正 形状 光センサ 測定時間

IT関連産業から発生する廃混酸の処理への溶媒抽出法の適用

IT関連産業から発生する廃混酸の処理への溶媒抽出法の適用
紙図書
芝田隼次, 関西大学 [著][芝田隼次]2003-2004<Y151-H15360485>
国立国会図書館
  • 件名IT関連産業 / シリコンウエハー / エッチング廃液 / 溶媒抽出 / 混酸廃液 / 分離...

光放射圧制御ナノCMP加工装置の開発

光放射圧制御ナノCMP加工装置の開発
紙図書
三好隆志, 大阪大学 [著][三好隆志]2001-2003<Y151-H13355006>
国立国会図書館
  • 件名光放射圧 / ナノテクノロジー / 研磨加工 / CMP / 平坦化 / レーザトラップ / シリコンウエハ / 半導体

競合連想ニユ-ラルネツトの逐次的学習方法の構成と制御への応用

競合連想ニユ-ラルネツトの逐次的学習方法の構成と制御への応用
紙図書
黒木, 秀一, 九州工業大学2000-2002<Y151-H12680389>
国立国会図書館
  • 件名競合連想ニユ-ラルネツト 競合学習 連想記憶 温度制御 シリコンウエハ RCA洗浄システム

超クリ-ン・真空環境用高出力静電浮上リニアモ-タ

超クリ-ン・真空環境用高出力静電浮上リニアモ-タ
紙図書
樋口, 俊郎, 東京大学2000-2002<Y151-H12355011>
国立国会図書館
  • 件名静電モ-タ リニアモ-タ 非接触浮上 静電浮上 真空 クリ-ンル-ム アクチユエ-タ シリコンウエハ

超純水中での高速せん断流と電気化学作用を利用した超精密洗浄システムの開発

超純水中での高速せん断流と電気化学作用を利用した超精密洗浄システムの開発
紙図書
後藤英和, 森勇蔵, 大阪大学 [著][後藤英和]2002-2003<Y151-H14205025>
国立国会図書館
  • 件名超純水 / せん断流 / 洗浄 / 微粒子汚染 / シリカ / シリコンウエハ / 液晶ディスプレー / インジウム・シン・オキサイド

半導体CMP加工における薄膜表面欠陥のナノインプロセス計測に関する研究

半導体CMP加工における薄膜表面欠陥のナノインプロセス計測に関する研究
紙図書
三好, 隆志, 大阪大学2000-2001<Y151-H12450060>
国立国会図書館
  • 件名表面欠陥 ナノインプロセス計測 レーザ応用計測 CMP加工 薄膜表面 シリコンウエハ 光散乱 半導体

ポリシング用砥粒としての焼成貝殻セラミックスの有効利用

ポリシング用砥粒としての焼成貝殻セラミックスの有効利用
紙図書
中村等, 八戸工業高等専門学校 [著][中村等]2003-2004<Y151-H15560107>
国立国会図書館
  • 件名焼成貝殻セラミックス / スラリー / 産業廃棄物の有効利用 / 地球環境 / ポリシング / シリコンウェハ / 鏡面 / ダイヤモンドパウダ

大口径Siウエハ対応の2003年実用one-stop加工機械及び中核技術の開発

大口径Siウエハ対応の2003年実用one-stop加工機械及び中核技術の開発
紙図書
江田, 弘, 茨城大学1999-2001<Y151-H11792007>
国立国会図書館
  • 件名シリコンウエハ 超磁歪材料 微小位置決め装置 姿勢制御 固定砥粒 研削加工...

環境にやさしい次世代ドライポリシング法に関する研究

環境にやさしい次世代ドライポリシング法に関する研究
紙図書
安永, 暢男, 東海大学2000-2001<Y151-H12650122>
国立国会図書館
  • 件名メカノケミカルポリシング クリーン研磨技術 ドライ研磨 定圧研磨装置 シリコンウエハ 砥石研磨 BaCO3砥石

多機能デバイス基板の超薄型化加工技術の研究開発

多機能デバイス基板の超薄型化加工技術の研究開発
紙図書
峠睦, 熊本大学 [著][峠睦]2002-2003<Y151-H14350074>
国立国会図書館
  • 件名多機能デバイス基板 / 水晶振動子 / 超薄型化加工 / 砥粒加工 / ラッピング / ポリシング / チタン酸バリウム / シリコンウェハ

精密加工に関する協同研究

精密加工に関する協同研究
紙図書
橋本, 洋, 神奈川工科大学1997-1998<Y151-H09045060>
国立国会図書館
  • 件名超音波 精密研削 硬ぜい材料 研削加工限界値 ダイヤモンドホイール シリコンウエハ 研削抵抗値 表面粗さ

イメージングプレート・電子回折による半導体デバイスのゲツタリング機構の定量的解析

イメージングプレート・電子回折による半導体デバイスのゲツタリング機構の定量的解析
紙図書
友清, 芳二, 九州大学1995-1996<Y151-H07455010>
国立国会図書館
  • 件名不純物ゲツタリング シリコンウエハー 格子歪み 酸素析出物 収束電子回折 高次ラウエゾーン

赤外エバネセント光を利用したシリコンウエハ加工表面層のナノ欠陥計測法に関する研究

赤外エバネセント光を利用したシリコンウエハ加工表面層のナノ欠陥計測法に関する研究
紙図書
高谷, 裕浩, 大阪大学1999-2000<Y151-H11450058>
国立国会図書館
  • 件名シリコンウエハ 加工表面層欠陥 COP欠陥 赤外レーザ 赤外エバネセント場...

シリコンウエハ加工表面欠陥のナノインプロセス計測に関する研究

シリコンウエハ加工表面欠陥のナノインプロセス計測に関する研究
紙図書
三好, 隆志, 大阪大学1995-1996<Y151-H07455064>
国立国会図書館
  • 件名シリコンウエハ 表面欠陥検査 光応用計測 微小付着異物 インプロセス計測 ...

YAGレーザを用いたシリコンウエハの精密割断加工システム

YAGレーザを用いたシリコンウエハの精密割断加工システム
デジタル文書・図像類
山田, 啓司, Yamada, Keiji2016-04-21平成13(2001)年度 科学研究費補助金 奨励研究(A) 研究概要 = 2001 Research Project Summary2000 – 2001p.2p.-
全国の図書館
  • 件名YAGレーザ シリコンウエハ ダイシング 熱応力割断 温度測定
  • 一般注記...結果を得るために,解析に先立ちシリコンウエハのレーザ光吸収率を積分球を用い......は,別の材料試験によって求めたシリコンウエハの破壊靭性値と比較し,き裂が進...... 出典：「YAGレーザを用いたシリコンウエハの精密割断加工システム」研究成果報告書　課題番号 12750...

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